對鋁上陽極膜厚度測量儀你了解嗎？

　　鋁上陽極膜厚度測量儀主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點。
 

　　其厚度用表面電阻來表示，單位是Ω，數值越大說明鍍鋁層厚度越薄，一般真空鍍鋁薄膜的表面電阻值為1.0-2.5Ω。其試驗原理：試樣金屬鍍層為一段金屬導體，依據歐姆定律測量規定長度和寬度試樣的金屬鍍層電阻值，以方塊電阻表示金屬鍍層的厚度或直接計算其厚度。標準中對真空金屬鍍層厚度測量裝置也進行了明確規定，要求電阻測量誤差不大于±1%，裝置的測量寬度不小于100mm，兩測量頭間的距離精度為±0.10mm。
 

　　鋁上陽極膜厚度測量儀基于薄膜干涉，這是一種物理現象：薄膜上下表面反射的光波會相互干擾，產生光的干涉現象，進而增強或減弱反射光。當膜的厚度是其反射光的1/4波長的奇數倍時，來自兩個表面的反射光會相互抵消，因此光不會被反射，全部透射過去了。當厚度是光的1/2波長的倍數時，兩個反射波會互相增強，從而增加反射并降低透射。
 

　　因此，當由一組波長組成的白光入射到薄膜上時，某些波長(顏色)的光被增強，而其他波長則被減弱。在這種裝置中，光學系統在物體表面成一個點源的像。反射回來的散射的光由同一光學系統收集，該光學系統將光點成像在一個針孔上。針孔位于光電探測器的前面。它可以過濾到達光譜儀的光線，因此也稱為“空間過濾器”。